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发表于 2012-2-12 14:15:36
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IP:重庆
什么是EMI A405igF
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% l0 X# W. @% V; f1 g; M, [8 ^- o 电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW 5 e$ ~" W l o3 L
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1 V% ^7 r' A% d, \7 { 电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
8 f9 O# u$ S5 i4 E% C0 mu!~kmIa4 $ \5 y( [8 E" l8 ]+ I ~! o
EMI溅射镀膜的原理 j< h1s% 1 M/ t( Q/ Q. P! D* i2 b, f
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7 T6 o" {6 U- Y g; s: F) k' Z原理说明: *"_W1}^
% G% d h8 t G% x& w3 E5 k1. 在高度真空状态下,充入适量氩气; _\\IA[-C+O
! ~. E2 ^" |2 p, l" Q3 c, O% x2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子; E83$(6z . G3 j# i8 e/ @) y! I
3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L
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4 N% d y- ^0 L) H- X4 K) L真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9 0 y4 z$ s$ [ \- k/ U6 \
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i
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5 J o2 [+ X( Z 适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。 DsxNg
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw
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真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。 r&v!2A]: 2 g& d, O7 X% _4 k7 Y2 x# r3 V
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EMI溅射镀膜具有以下特点: 46l*ui_ / n2 F) p' @4 X F! g
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9 w$ f/ w5 u5 U% h; e& }价格低(国内拥有自主知识产权的话)。 %>zG;4 2 \4 [% X2 j% w, T: a3 j6 O+ X& d) `
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。 nip*Y@-F
, J# W) |( Y4 \- C+ y5 d真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。 _E0yzkS . c0 A- H5 c" ~# A
欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。 =*-a c
8 l# Z8 V! i2 z; e7 K! J, R; j被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 6 AY~>p
8 R8 b: P- {5 H9 Z7 f2 l7 [膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ
* X$ h2 ~) x" X c/ P3 W附著力强(ASTM3599方法测试4B)。 e&(Wn2)o
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可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
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